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日本 JFE FiDiCa 非接觸膜厚分布測(cè)定儀

日本 JFE FiDiCa 非接觸膜厚分布測(cè)定儀

更新日期:2026-04-16

訪問(wèn)量:21

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址:日本

簡(jiǎn)要描述:
日本 JFE FiDiCa 非接觸膜厚分布測(cè)定儀,基于白光干涉與超光譜分光技術(shù),實(shí)現(xiàn)非接觸、無(wú)損式二維膜厚分布精準(zhǔn)檢測(cè)。覆蓋從納米級(jí)超薄膜到百微米級(jí)厚膜的全量程測(cè)量,支持晶圓、薄膜板材、涂層材料等多類樣品檢測(cè),自動(dòng)生成可視化分布圖像與均勻性分析數(shù)據(jù),適配半導(dǎo)體研發(fā)、電子材料、薄膜產(chǎn)線等多場(chǎng)景質(zhì)量監(jiān)控與檢測(cè)。

1. 產(chǎn)品概述

日本 JFE FiDiCa 非接觸膜厚分布測(cè)定儀,采用白色光干涉原理,通過(guò)超光譜相機(jī)采集反射光光譜信號(hào),結(jié)合專屬算法完成膜厚值計(jì)算與分布解析。設(shè)備配置工業(yè)級(jí)硬件,運(yùn)行穩(wěn)定,可滿足實(shí)驗(yàn)室研發(fā)與產(chǎn)線在線檢測(cè)的多元需求。

2. 核心性能參數(shù)

  • 測(cè)量量程:50nm ~ 800μm(全系列覆蓋薄膜 / 厚膜 / 極厚膜場(chǎng)景);

  • 測(cè)量精度:薄膜 / 厚膜模型重復(fù)性 3σ<1.0nm,極厚膜模型 3σ<10nm,膜厚分解能達(dá) 1nm;

  • 數(shù)據(jù)采集:支持百萬(wàn)級(jí)點(diǎn)位測(cè)量,在線型設(shè)備可實(shí)現(xiàn)高速數(shù)據(jù)采集;

  • 空間分辨率:5μm ~ 300μm(分型號(hào)適配,高分辨率型可達(dá) 5μm 級(jí));

  • 適配樣品:4~12 英寸晶圓、A4 尺寸以內(nèi)板材、柔性薄膜、涂層材料等;

  • 顯示輸出:自動(dòng)生成膜厚分布熱力圖、均勻性分析報(bào)表、缺陷定位數(shù)據(jù),支持多格式導(dǎo)出。

3. 產(chǎn)品型號(hào)與適用場(chǎng)景

型號(hào)系列核心適用場(chǎng)景關(guān)鍵特點(diǎn)
S 系列(標(biāo)準(zhǔn)型)實(shí)驗(yàn)室多品類膜層檢測(cè)、晶圓厚度均勻性監(jiān)控全量程覆蓋,可切換薄膜 / 厚膜 / 極厚膜測(cè)量模式
H 系列(高分辨率型)半導(dǎo)體晶圓局部高精度檢測(cè)、研發(fā)級(jí)微膜層分析適配 6 英寸晶圓,支持 5μm 級(jí)高分辨率點(diǎn)測(cè)
Inline 型(在線型)薄膜產(chǎn)線在線檢測(cè)、量產(chǎn)型晶圓工藝監(jiān)控產(chǎn)線集成設(shè)計(jì),IP65 防護(hù)可選,兼容產(chǎn)線運(yùn)行

4. 日本 JFE FiDiCa 非接觸膜厚分布測(cè)定儀 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)與特點(diǎn)

  1. 非接觸無(wú)損測(cè)量:無(wú)需接觸樣品表面,避免基材損傷,適配精密膜層與易碎樣品;

  2. 全量程適配:從 50nm 超薄膜到 800μm 極厚膜,一套設(shè)備覆蓋多類工業(yè)膜層檢測(cè)需求;

  3. 可視化輸出:自動(dòng)生成熱力圖與分析報(bào)告,數(shù)據(jù)直觀易懂,降低數(shù)據(jù)解讀成本;

  4. 多形態(tài)兼容:支持桌面式、落地式、產(chǎn)線集成式三種安裝形態(tài),適配實(shí)驗(yàn)室與工業(yè)產(chǎn)線;

  5. 運(yùn)行穩(wěn)定:工業(yè)級(jí)硬件配置,工作溫度 10℃~35℃,適配國(guó)內(nèi)工業(yè)環(huán)境穩(wěn)定運(yùn)行。

5. 應(yīng)用領(lǐng)域

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造(晶圓氧化膜、光刻膠膜厚檢測(cè))、電子材料(柔性板涂層、顯示面板膜層檢測(cè))、薄膜行業(yè)(原膜、涂層均勻性監(jiān)控)、玻璃 / 材料加工(厚膜、功能薄膜檢測(cè))等領(lǐng)域,滿足工業(yè)生產(chǎn)中膜層質(zhì)量管控的需求。

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