一、ADTEC高周波射頻電源TX 系列 核心性能與技術(shù)特點

1. 耐反射線性放大技術(shù)設備搭載耐反射 AB 級線性放大器，可承受等離子負載波動帶來的高反射功率，有效降低工藝過程中因負載變化導致的電源損壞風險，提升復雜工藝環(huán)境下的運行穩(wěn)定性，減少設備停機維護成本。
2. 緊湊型半機架設計相比前代機型，TX 系列采用小型化半機架機箱，寬度與重量均降至原有機型的 1/2 以下，大幅節(jié)省機柜安裝空間，適配產(chǎn)線設備集成與實驗室緊湊布局需求，便于在有限空間內(nèi)完成多設備安裝。
3. 豐富的擴展功能配置設備支持脈沖輸出模式，可調(diào)節(jié)脈沖占空比，實現(xiàn)等離子體精細化控制；可選 VF 可變頻率功能，可在設定頻段內(nèi)微調(diào)輸出頻率，優(yōu)化不同負載下的等離子體匹配效果；內(nèi)置電弧抑制功能，可快速識別并抑制等離子弧光，保護電源與工藝腔室，降低工藝中斷風險。

二、規(guī)格與適配性

• 輸出功率覆蓋 300W~5000W，主流型號含 300W、600W、1000W、2000W、5000W，可根據(jù)工藝需求靈活選擇；

• 標準輸出頻率為 13.56MHz，支持 VF 可變頻率功能，適配不同工藝的等離子體激發(fā)需求；

• 冷卻方式可選風冷或風冷 + 水冷，適配不同功率段與工況環(huán)境；

• 支持 RS-232 通訊接口，可選配 EtherCAT 工業(yè)通訊模塊，可無縫接入自動化產(chǎn)線，實現(xiàn)遠程控制與數(shù)據(jù)交互。

三、ADTEC高周波射頻電源TX 系列 應用場景

• 半導體制造：晶圓等離子刻蝕、薄膜沉積、表面清洗工藝；

• 面板與光學：LCD/OLED 面板清洗、光學元件表面改性；

• 材料處理：高分子材料表面活化、提升粘接與涂覆附著力；

• 科研研發(fā)：等離子體物理實驗、新型工藝開發(fā)與驗證。