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日本 SAKIGAKE 魁半導體 液中等離子裝置

日本 SAKIGAKE 魁半導體 液中等離子裝置

更新日期:2026-05-14

訪問量:78

廠商性質:經銷商

生產地址:日本

簡要描述:
日本 SAKIGAKE 魁半導體 液中等離子裝置DKN-128,是一款實驗室級液相等離子處理設備,可在溶液中直接產生等離子體,用于粉體表面改性、鍍前活化與溶液反應促進,無需真空環境,適配多種材料處理場景。

一、產品概述

日本 SAKIGAKE 魁半導體 液中等離子裝置DKN-128,是專為粉體材料表面改性、溶液中反應處理設計的桌面式設備。它采用液中直接放電技術,在溶液中產生等離子體,同時利用等離子體的化學活性與沖擊波效應,實現材料表面活化、粉體解聚與溶液處理,無需真空腔室,為實驗室研究與小批量生產提供便捷的處理方案。

二、核心特點

? 液中直接放電,無需真空環境設備可在常壓溶液中直接產生等離子體,樣品可直接浸沒在溶液中處理,避免干燥、氧化等影響,尤其適合粉體、多孔材料的均勻改性。
? 等離子體 + 沖擊波協同處理放電過程中產生的沖擊波可同步解聚粉體團聚,同時等離子體實現表面活化,提升后續涂層、電鍍工藝的附著力與均勻性。
? 連續運行模式,適配多種處理需求支持長時間連續運行,可適配實驗研究與小批量生產需求,相比傳統批次式設備,大幅提升處理效率。
? 桌面式緊湊設計,實驗室友好設備整體結構緊湊,占地面積小,無需復雜配套設施,放置在實驗臺即可使用,操作流程簡便,降低了液相等離子處理的使用門檻。

三、基礎參數

項目詳情
品牌SAKIGAKE(魁半導體,日本)
型號DKN-128
處理方式液中等離子放電處理,常壓運行
核心功能粉體表面改性、鍍前預處理、溶液中化學反應促進、粉體解聚
適配樣品形態薄膜狀、粉粒體、管狀等多種形狀樣品
外形尺寸(W)685mm × (D)425mm × (H)440mm

四、日本 SAKIGAKE 魁半導體 液中等離子裝置DKN-128適用場景

  • 粉體材料表面改性,提升金屬、非金屬粉體的分散性與表面活性

  • 粉體鍍前預處理,優化表面狀態,提升鍍層附著力

  • 材料科學研究,如溶液中材料表面改性、納米材料合成、有機污染物降解實驗

  • 小型精密部件的液相清洗與表面活化處理


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