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MC-4A 四工位懸掛式臺式振動磨機

MC-4A 四工位懸掛式臺式振動磨機

更新日期:2026-06-23

訪問量:15

廠商性質:經銷商

生產地址:日本

簡要描述:
日本伊藤制作所MC-4A 四工位懸掛式臺式振動磨機,低振動臺式回旋研磨設備,單罐 10ml 微量容量,可同時放置 4 個研磨容器同步制備平行樣品;采用棒狀研磨介質,相比球磨樣品粘附率低、研磨發熱小、清洗簡單;配套 7 種材質研磨罐,出料可達 0.01mm 以下超細粉體,專為 X 射線熒光、XRD 光譜分析地質礦石、陶瓷、醫藥微量試樣制樣,適配高校、礦產檢測、新材料研發實驗室

一、日本伊藤制作所MC-4A 四工位懸掛式臺式振動磨機 產品基礎信息

項目參數詳情
產品型號MC-4A 四工位懸掛式振動磨機
設備別名臺式回旋振動研磨機、X射線分析微量平行樣品制樣機
產地日本
研磨原理回旋高頻振動,棒狀介質撞擊摩擦超細粉碎
核心用途XRF/XRD光譜檢測微量硬質樣品平行超細制樣

二、完整標準技術參數

參數名稱MC-4A規格
供電規格100V 50/60Hz
驅動電機功率100W(0.1kw)
研磨工位4個獨立懸掛工位,4組樣品同步研磨
單罐容積10ml/個,批次總研磨量40ml
進料粒度上限≤5mm小塊硬質原料
出料細度0.01mm以下,納米級超細粉末
研磨介質形式棒式粉碎介質,低粘壁、低熱生成
可選罐體7種材質瑪瑙、部分穩定氧化鋯、高鋁、淬火硬化鋼、不銹鋼、碳化鎢、聚酰胺樹脂
整機外形尺寸W360×D460×H400mm
主機凈重約35kg(不含研磨罐、研磨棒耗材)

三、設備工作原理

設備依靠電機驅動整機產生低振動回旋運動,帶動扁平寬底研磨罐與內部棒狀介質持續撞擊、摩擦物料,短時間將微量硬質塊狀試樣研磨至0.01mm以下超細粉末;區別傳統球形球磨,棒式介質接觸面積均勻,樣品粘壁殘留少,研磨產熱更低,不會損傷熱敏、易氧化微量試樣;四工位同步結構可一次性完成4組平行對比樣品,滿足光譜儀器批量檢測需求。

四、產品核心優勢

1. 四工位同步研磨,平行試驗效率大幅提升

可同時裝載4個研磨罐,一次性制備4組對照樣品,適配地質、礦產實驗室大批量X射線光譜檢測,減少多次研磨操作,保障實驗數據一致性。

2. 棒式介質+扁平罐體,低粘附、低熱損傷

摒棄傳統球形磨球,采用棒狀研磨介質,研磨時物料附著率低,罐體無頑固殘留;運行發熱遠低于常規球磨機,適合熱敏、易氧化珍貴微量樣品制樣,清洗簡單無交叉污染。

3. 7種材質罐體全覆蓋,適配各類檢測試樣

提供瑪瑙、氧化鋯、氧化鋁、硬質合金、不銹鋼、樹脂等7種研磨容器,可根據礦石、稀土、陶瓷、醫藥、金屬試樣自由選配,杜絕金屬離子析出,滿足高純度分析標準。

4. 低振動臺式機身,實驗室臺面直接擺放

整機優化減震回旋結構,運行抖動小,360×460mm緊湊占地,無需專用地基,化驗室、小型研發工位均可放置。

5. 10ml微量小容量,適配微量稀缺樣品

單罐僅10ml容積,針對XRF、XRD等微量分析儀器配套,少量稀缺礦石、礦物、原料藥也可完整制樣,無樣品浪費。

6. 密閉弧形防塵翻蓋,潔凈作業無損耗

弧形密封防塵上蓋,研磨過程粉料不外溢,既保護實驗室環境,又避免微量珍貴樣品流失損耗。

7. 靈活租賃方案,降低短期試驗成本

原廠提供設備有償租賃服務,適合短期課題、階段性檢測項目,無需一次性全款采購設備。

五、日本伊藤制作所MC-4A 四工位懸掛式臺式振動磨機 適用物料與應用行業場景

1. 適配研磨硬質樣品

  • 地質礦產:巖石、稀土礦、土壤、微量礦石、礦物標樣(X射線熒光、XRD分析專用)

  • 無機陶瓷:耐火粉體、熒光粉、高純陶瓷顆粒、無機填料

  • 醫藥化工:藥用礦物、無機原料藥、硬質催化顆粒、固態高分子小樣

  • 硬質合金:微量碳化鎢、金屬礦、淬火硬質原料

2. 適用機構

地質勘察院、礦產檢測中心、高校材料/地質學院實驗室、第三方光譜分析檢測機構、陶瓷新材料研發室、藥企理化質檢實驗室。

六、整機結構組成

  1. 臺式一體化減震主機底座:內置100W回旋振動電機,低震動運行;

  2. 四工位獨立懸掛罐架:4組卡扣式工位,可單獨拆裝研磨罐;

  3. 弧形透明防塵密封翻蓋:運行密閉防塵,開蓋停機安全保護;

  4. 數字控制面板:研磨時長、振動參數調節模塊;

  5. 選配耗材組件:10ml多材質扁平研磨罐、配套棒狀研磨介質;

七、標準操作流程

  1. 根據樣品材質挑選對應10ml研磨罐,裝入微量試樣與配套棒狀研磨介質,密封罐蓋;

  2. 將4個研磨罐對稱懸掛固定在四工位支架,扣緊卡扣;

  3. 閉合防塵翻蓋,接通100V電源,在面板設置研磨時長;

  4. 啟動設備,回旋振動帶動介質超細研磨,短時間完成制樣;

  5. 計時結束自動停機,待振動停止后打開翻蓋;

  6. 取下研磨罐,倒出超細粉末用于光譜儀器分析,清水沖洗罐體即可清除殘留。


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